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中国科学院兰州化学物理研究所磁控脉冲多弧离子镀沉积系统公开招标公告

本设备为脉冲磁场多弧离子镀膜设备，用于开展真空离子物理气相沉积(PVD)相关科学实验与样品制备工作。设备可在金属、合金及部分非金属试样表面制备金属膜、合金膜、硬质陶瓷膜、类金刚石等多种功能涂层，满足材料表面改性、摩擦磨损、耐蚀防护等方向科研试验需求。 本设备为脉冲磁场多弧离子镀膜设备，用于开展真空离子物理气相沉积(PVD)相关科学实验与样品制备工作 设备可在金属、合金及部分非金属试样表面制备金属膜、合金膜、硬质陶瓷膜、类金刚石等多种功能涂层，满足材料表面改性、摩擦磨损、耐蚀防护等方向科研试验需求

• 平台整理

需求类型

采购

预算

200–1000 万

申请截止

2026-11-26

适用地区

兰州

信息由平台整理自公开渠道，以官方公告为准。